16 Haziran'da Çin Metalurji Haberleri, Çin Demir ve Çelik Araştırma Grubu'ndan Central Iron and Steel Research Institute Co., Ltd.'den (CRIRI) ülkemin yüksek - son ekran metal malzemelerinin araştırma ve geliştirmesinde büyük bir atılım sağladığını bildirdi. CRIRI, Baosteel Group ve Yanshan Üniversitesi arasında ortak bir çaba, Çin'de ve yurtdışında ilk kez, ultra - geniş genişlik {{-}}} ila - kalınlık oranı ile 15.000: 1 (1,500 mm) kalınlık oranı ile gelişmiştir.
Malzeme 11 Mart'ta soğuk - yuvarlandı ve gönderildi. Aşağı akım çekirdek işlem denetimi yapıldıktan sonra, 14 Mayıs'ta kullanıcı geri bildirimi alındı, bu da malzemenin mükemmel performans sergilediğini ve esasen anahtar ekran paneli üretim süreçlerinde kullanım gereksinimlerini karşıladığını gösterdi. Bu başarı, ülkemin Ar -Ge'si ve dünyaya -} önde gelen seviyelere ekran uygulamaları için hassas invar alaşım şeridi için üretim yeteneklerini ileri sürüyor.
Son derece düşük termal genişleme katsayısı olan invar alaşımı, yüksek - hassas OLED (organik ışık - yayma diyot yayan diyot) ekran panellerinde buhar biriktirme maskeleri için vazgeçilmez bir çekirdek substrat haline gelmiştir. Şu anda, Çin'deki açık metal maskeleri için anahtar işlemlerde kullanılan 0.1mm invar alaşım şeridi genellikle 1000mm genişliğindedir ve tamamen ithal edilir. Ultra - genişliğinde, ultra - İnce invar alaşım şeridi, bu kez 15.000: 1 genişlik - ile - kalınlık oranı sınırını başarıyla kırıyor. Bu tür ince ve geniş şeritler, düzensiz stres dağılımına, şekil kontrolünde zorluk ve yuvarlanma sırasında kenar çatlamasına karşı oldukça hassastır, haddeleme ekipmanı hassasiyetine, süreç kontrol yeteneklerine ve iç yapısal homojenliğe son derece katı talepler yerleştirir. Bu malzeme spesifikasyonu uluslararası olarak mevcut değildir, ülkemde bağımsız araştırma ve geliştirme gerektirir.
Projenin Ar -Ge ekibi, bu boyut atılımı elde etmenin yanı sıra, aşırı saflık kontrolü, ultra - düz haddeleme ve ultra geniş, ultra - ince faca alay şeridi için düşük artık stres kontrolü dahil olmak üzere bir dizi zorluğu başarılı bir şekilde aştı. Proje ekibi, - büyük külçe için sıfır içerme saflığına yakın olan yarı iletken - sınıfının ilk yurtiçi başarısını elde etti. Ayrıca, kalıntı stresleri başarılı bir şekilde evcilleştirerek ve işleme verimliliğini ve şerit performans tutarlılığını önemli ölçüde iyileştirerek, özel bir haddeleme - Isıl işlem koordineli kontrol teknolojisi geliştirdiler.
Proje ekibi lideri, bu ultra - geniş, ultra - İnce tomurcuk alaşım şeridinin, bir sonraki- nesil için daha büyük açık metal maske substratları için acil talebi doğrudan karşılayacağını açıkladı. (Micro - Light - yayan diyot) ekran panelleri. Bu, ülkemin yeni ekran endüstrisinde teknolojik yükseltmeleri ve maliyet optimizasyonunu önemli ölçüde teşvik edecek ve gelecekteki ekran endüstrisi zincirinde çekirdek malzemelerin bağımsız kontrolü için sağlam bir temel sağlayacak. Açık metal maskeler için anahtar bir malzeme olmanın yanı sıra, bu malzeme uzay optikleri, hassas enstrümanlar ve elektronik ambalajlar dahil olmak üzere çeşitli alanlarda da uygulanabilir.
Lider, "Bu atılım, endüstri, akademi ve araştırmanın derin entegrasyonunu ve işbirlikçi çabalarını örneklendiriyor. İleride, süreçleri optimize etmeye, ürünlerimizin genel performansını ve istikrarını artırmaya ve ülkemin büyük bir ekran ülkesinden öncü bir ekran gücüne geçişine katkıda bulunmaya devam edeceğiz."
